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CXG-2型超临界细微粒子制备装置 该设备在RESS工艺基础上，适当放宽超临界环境的调整范围，可满足不同物料粒子的制备，结品虢上盖设置三通道，可升级为SEDS工艺。时间：2023-01-13型号：CXG-2型厂商性质：生产厂家浏览量：602
SFE-2型超临界纳米粒子制备装置该设备采用RESS 工艺,在超临界状态下，物料无表面张力束缚，迅速实现干操并保护，阻止晶核极附成长。通过改变流体的进入方向和物料溶液的进入方式，可实现GAS工艺，共用一套超临界制备系统，在不影响工艺的前提下，节约成本。盖体内壁经精确打磨，在喷咀喷出范围内不会发生黏壁现象，也可根据用户特定要求配置内衬,时间：2023-01-13型号：SFE-2型厂商性质：生产厂家浏览量：703
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